13:00~13:35【HEDS】プラズマの理解に基づくEUV発光制御 – EUV発生に適したレーザー条件とは? –
北海道大学大学院工学研究院 富田健太郎
レーザー応用の1つにEUV光源がある。最先端の半導体用露光用EUV光源もまた、パルスレーザーで生成されたプラズマが利用されている。本セミナーではまず、プラズマの温度や密度がEUV発光量を決定するパラメータであることを概説する。次に、等温1次元膨張モデルに基づくレーザー条件(波長、強度、パルス幅)とプラズマ温度・密度の関係について説明する。セミナーを通し、「EUV発生に適したレーザー条件とは何か?」の理解を目指す。